按照《建設(shè)項目環(huán)境影響評價信息公開機制方案》(環(huán)發(fā)[2015]162號)文件要求,現(xiàn)將高端半導(dǎo)體芯片掩模版研發(fā)中心項目相關(guān)情況公示如下:
項目名稱:高端半導(dǎo)體芯片掩模版研發(fā)中心項目
建設(shè)地點:珠海市高新區(qū)金鼎片區(qū)金鼎中路東、金瑞二路北側(cè)
建設(shè)單位:珠海市龍圖光罩科技有限公司
項目概況:
項目總投資3320萬元,主要從事65-130nm工藝節(jié)點芯片掩模版及其關(guān)鍵技術(shù)的研究,并開展掩模版制造技術(shù)的基礎(chǔ)與理論研究,進一步提高公司的研發(fā)能力和自主創(chuàng)新能力。
全本公示稿如附件所示:
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